5月2日読了時間: 4分インジウムめっき~低融点はんだ材料を用いたマイクロバンプ形成のお話こんにちは、営業部のTZです。 この度、国内の某 センサーメーカー 様より、 インジウムバンプ形成工程用途の300mmフェイスアップ式めっき装置 のご注文を頂きました。 金属の中でも、金属と半導体の性質を持つインジウムは、半導体デバイスの材料として重要な役割を...
2021年5月28日読了時間: 4分めっきによるオールウェット微細配線の形成技術開発のお話こんにちは、研究開発部のTRです。 本記事では、無電解めっきによるCu拡散バリア層、シード層形成から、電解めっきによる配線形成を1台の装置で一気通貫に処理可能なめっき装置及びプロセス開発のお話をさせていただこうと思います。 最先端デバイスのモノづくりに不可欠なめっきプロセス...
2021年5月21日読了時間: 4分低応力ニッケルめっきによる電鋳プロセス技術開発のお話こんにちは、研究開発部のTRです。 本記事では、様々な電子デバイス製品分野で応用されているニッケル電鋳(エレクトロフォーミング:Electroforming)プロセスについて、弊社の低応力ニッケルめっき技術開発のお話をさせていただこうと思います。...