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![きちんとしたコンピュータデスク](https://static.wixstatic.com/media/e04c5fcf6b684fd18511a17e74b1bde1.jpg/v1/fill/w_414,h_276,al_c,q_80,usm_0.66_1.00_0.01,enc_avif,quality_auto/e04c5fcf6b684fd18511a17e74b1bde1.jpg)
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![ガラス基板のTGV形成をボイドレスで実現するめっき装置の技術](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_104b7d33633143a59365bf7fc5f16f61~mv2.png/v1/fill/w_502,h_322,fp_0.50_0.50,q_95,enc_auto/a3ddc1_104b7d33633143a59365bf7fc5f16f61~mv2.webp)
1月31日読了時間: 4分
ガラス基板のTGV形成をボイドレスで実現するめっき装置の技術
こんにちは、研究開発部のTRです。 実は、現在ガラス基板のTGV形成のご要求が増えています。 こちらは半導体後工程のパッケージング分野におけるガラスシリコンインターポーザーが業界的にホットな状況でその勢いを弊社は身に染みて感じております。...
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![3次元半導体の国際学会3DIC2024仙台に出展しました!](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_92fa95dea7e34b6e9738621cd62c048f~mv2.png/v1/fill/w_514,h_386,fp_0.50_0.50,q_95,enc_auto/a3ddc1_92fa95dea7e34b6e9738621cd62c048f~mv2.webp)
1月19日読了時間: 4分
3次元半導体の国際学会3DIC2024仙台に出展しました!
こんにちは、営業部のTZです。 ちょっと本ブログ記事の掲載が遅れてしまったのですが・・・。 2024年9月25日~27日に仙台市で開催されました3次元半導体の研究開発に関する国際学会IEEE International 3D Systems Integration...
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![先端半導体パッケージング向けビルドアップ配線のデスミア工程におけるボイド対策に脱気システムを!「Livalley」【脱気システム活用術】](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_8754e96085764d1baa8eb89d470cbb6e~mv2.png/v1/fill/w_381,h_199,fp_0.50_0.50,q_95,enc_auto/a3ddc1_8754e96085764d1baa8eb89d470cbb6e~mv2.webp)
2024年9月8日読了時間: 5分
先端半導体パッケージング向けビルドアップ配線のデスミア工程におけるボイド対策に脱気システムを!「Livalley」【脱気システム活用術】
こんにちは、営業部のTZです。 先端半導体パッケージングのプロセスにおいて、ビルドアップ配線の信頼性確保は製品の性能に直結します。特に、デスミア工程における気泡(ボイド)発生は、銅配線の接続不良や歩留まりの低下を招き、半導体業界において深刻な課題となっています。弊社の脱気シ...
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![](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_32bbd5295d31497d86f4e34b7994c7e3~mv2.jpeg/v1/fill/w_250,h_250,fp_0.50_0.50,q_30,blur_30,enc_auto/a3ddc1_32bbd5295d31497d86f4e34b7994c7e3~mv2.webp)
![インジウムめっき~低融点はんだ材料を用いたマイクロバンプ形成のお話](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_32bbd5295d31497d86f4e34b7994c7e3~mv2.jpeg/v1/fill/w_514,h_386,fp_0.50_0.50,q_90,enc_auto/a3ddc1_32bbd5295d31497d86f4e34b7994c7e3~mv2.webp)
2024年5月2日読了時間: 4分
インジウムめっき~低融点はんだ材料を用いたマイクロバンプ形成のお話
こんにちは、営業部のTZです。 この度、国内の某 センサーメーカー 様より、 インジウムバンプ形成工程用途の300mmフェイスアップ式めっき装置 のご注文を頂きました。 金属の中でも、金属と半導体の性質を持つインジウムは、半導体デバイスの材料として重要な役割を...
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![](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_e23c6821e3294858a7551e8ac13d6b1d~mv2.jpg/v1/fill/w_250,h_250,fp_0.50_0.50,q_30,blur_30,enc_auto/a3ddc1_e23c6821e3294858a7551e8ac13d6b1d~mv2.webp)
![めっき受託加工メーカー様向けめっき装置製品のご提案](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_e23c6821e3294858a7551e8ac13d6b1d~mv2.jpg/v1/fill/w_514,h_386,fp_0.50_0.50,q_90,enc_auto/a3ddc1_e23c6821e3294858a7551e8ac13d6b1d~mv2.webp)
2024年3月29日読了時間: 5分
めっき受託加工メーカー様向けめっき装置製品のご提案
こんにちは、営業部のTZです。 弊社は 電子デバイスの配線、電極形成用途のめっき工程を受託されているめっき加工メーカー様に、試作、少量生産用のめっき装置や治具のカスタマイズ製品を納入させていただいています。 大手電子デバイスメーカーにおける新製品開発や試作において、めっきプ...
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![ナノ双晶銅(Nano-twinned Copper)による微細配線形成のお話](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_1870ec0a587b432fbaf929dd95da8f96~mv2.png/v1/fill/w_514,h_386,fp_0.50_0.50,q_95,enc_auto/a3ddc1_1870ec0a587b432fbaf929dd95da8f96~mv2.webp)
2023年3月13日読了時間: 4分
ナノ双晶銅(Nano-twinned Copper)による微細配線形成のお話
こんにちは、研究開発部のTRです。 本記事では、最近電子デバイスの配線形成工程において注目されている「ナノ双晶銅めっき (Nano-twinned copper electrodeposition)」というめっき膜について、弊社めっき技術開発のお話をさせていただこうと思いま...
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![中小企業 研究開発展(サポイン・サビサポ)に出展しました!](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_f3ca2deeb5d346fc83170173afe6c315~mv2.png/v1/fill/w_514,h_386,fp_0.50_0.50,q_95,enc_auto/a3ddc1_f3ca2deeb5d346fc83170173afe6c315~mv2.webp)
2022年12月26日読了時間: 5分
中小企業 研究開発展(サポイン・サビサポ)に出展しました!
こんにちは、営業部のTZです。 2022年12月14日~12月16日に東京ビッグサイト(東7ホール)で開催されます「中小企業 研究開発(サポイン/サビサポ)展」に出展しました! (東京ビッグサイト東8ホール、ブース#①-23)...
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![](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_98c93dd790224df1b16d64480adb7ee0~mv2.jpg/v1/fill/w_250,h_250,fp_0.50_0.50,q_30,blur_30,enc_auto/a3ddc1_98c93dd790224df1b16d64480adb7ee0~mv2.webp)
![5G,6G通信システムで求められる高周波に対応した微細配線形成技術のお話](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_98c93dd790224df1b16d64480adb7ee0~mv2.jpg/v1/fill/w_514,h_386,fp_0.50_0.50,q_90,enc_auto/a3ddc1_98c93dd790224df1b16d64480adb7ee0~mv2.webp)
2022年12月26日読了時間: 5分
5G,6G通信システムで求められる高周波に対応した微細配線形成技術のお話
こんにちは、営業部のTZです。 現在、携帯ショップやニュース等で見かけることも当たり前となった「5G」という通信規格ですが、皆様はどのようなものかご存じでしょうか? 漠然と「4Gよりも通信速度が速くて、映画などの大容量データをあっという間にダウンロードできる」くらいのイメー...
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![めっきによるオールウェット微細配線の形成技術開発のお話](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_5d0a93fc78c146e990afca07ff67c246~mv2.png/v1/fill/w_514,h_386,fp_0.50_0.50,q_95,enc_auto/a3ddc1_5d0a93fc78c146e990afca07ff67c246~mv2.webp)
2021年5月28日読了時間: 4分
めっきによるオールウェット微細配線の形成技術開発のお話
こんにちは、研究開発部のTRです。 本記事では、無電解めっきによるCu拡散バリア層、シード層形成から、電解めっきによる配線形成を1台の装置で一気通貫に処理可能なめっき装置及びプロセス開発のお話をさせていただこうと思います。 最先端デバイスのモノづくりに不可欠なめっきプロセス...
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![](https://static.wixstatic.com/media/a3ddc1_c045aa4d81dc4e709f0455703916281f~mv2_d_3000_2000_s_2.jpg/v1/fill/w_719,h_479,al_c,q_80,usm_0.66_1.00_0.01,enc_avif,quality_auto/a3ddc1_c045aa4d81dc4e709f0455703916281f~mv2_d_3000_2000_s_2.jpg)
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