こんにちは、研究開発部のTRです。 本記事では、無電解めっきによるCu拡散バリア層、シード層形成から、電解めっきによる配線形成を1台の装置で一気通貫に処理可能なめっき装置及びプロセス開発のお話をさせていただこうと思います。 最先端デバイスのモノづくりに不可欠なめっきプロセス...

こんにちは、営業部のTZです。 この度、米国の磁気デバイスメーカー様から複数台の磁性電解めっき装置のご注文を頂きました。 弊社はサブミクロン～数ミクロンオーダーの磁性合金めっき薄膜形成用途のめっき装置メーカーとして、過去数十年間にわたり、ハードディスクメーカー様向けに、フェ...