めっき装置 エッチング装置 スクラバー ガス除害装置 排ガス処理装置 などのウェットプロセス装置の設計開発、製造販売。

メッキ装置 ガス除害装置 エッチング装置 【株式会社東設】
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東設は、デバイスメーカー向け開発型装置ベンチャーです。 「独自技術とそのアプリケーションの継続的増殖」を経営方針とし、「顧客 の創造」という不変の目的に突き進んでいます。当社の柱は「自動電解めっき 装置」と「ガスの除害装置」。内、米国のユーザーへの数多くの実績が、その 高い技術と先進性の証です。自由な発想を愛するベンチャー東設への コンタクトをお待ちしています。
>>詳しくはこちら

2014年11月5日半導体産業新聞に弊社社長のインタビュー記事が掲載されました。
2013年11月6日半導体産業新聞に弊社社長のインタビュー記事が掲載されました。


除害装置新製品情報

除害装置新製品情報

製品名:Panacea
型式:P-200V-HA-M2
最大処理風量 200L/min
主な処理ガス除害効率:
Cl2 >99%
SiF4 >99%

液晶工場・半導体工場向けドライエッチング装置用 湿式除害装置
ドライエッチング装置〜PFC燃焼除害装置の間に設置します。
ドライエッチング過程で発生した反応生成物及びフッ素系ガスをPanaceaで処理し、
後段のアルカリスクラバーで塩素系ガスの処理を行います。
フッ素系ガスと塩素系ガスを別々に処理することで、除害装置内での反応生成物の発生を抑制し、
塩素ガスをアルカリ処理し除去することで燃焼除害装置で発生する発がん性物質の生成を抑制しています。
生産装置のダウンタイムの大幅な削減、燃焼除害装置のメンテナンスサイクルの向上が
Panaceaの導入により実現可能となり、ユーザーから高く評価されています。

詳細については弊社技術営業部までお問い合わせ下さい。


めっき装置新製品情報

めっき装置新製品情報


縦型ディップ式電解めっき装置
「各種めっき液対応ラック対応自動搬送」
槽は数十槽まで設置可能
槽構成・仕様・基板サイズ等装置に関する詳細は弊社営業部署までお気軽にお問い合わせください


製品紹介
めっき装置 スクラバー除害装置
薄膜形成のあらゆるご要望にお答えできるオーダーメイドのめっき装置をご提供致します。 エッチング装置から排気される有害ガスを人体に安全な値(TLV値)以下まで除害(処理)するための装置です。

インフォメーション

新着情報
2017.01.06 ドライエッチングガス除害装置の新製品情報を掲載しました。
2016.09.09 第3回NEDIA電子デバイスフォーラム京都(2016年11月1日〜11月2日)へ出展します。
 関連サイト
>>クリックでフォーラム関連サイトへ

2014.11.05 半導体産業新聞に弊社社長のインタビュー記事が掲載されました。
2013.11.06 半導体産業新聞に弊社社長のインタビュー記事が掲載されました。
2013.09.16 最新のTSVめっき成膜結果写真を掲載しました。
2013.09.13 並列2槽式めっき装置の説明ビデオをリンクしました。
2013.06.21 コンパクト手動めっき装置(フェイスアップ水平パドル方式)の写真をアップしました。

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